一 | 周三，智谱回应询问时证实了外界猜测，称Ox Alpha是其GLM系列模型的新一代版本，并表示将在今晚发布该模型的权重。 7月22日，据财闻海外资讯，俄罗斯绿城纳米技术中心（ZNTC）已成功研制出一台电子束光刻机（ELL）原型机，设计标准为150纳米。该项目属于俄罗斯国家计划科学技术发展框架下的重点研发任务，代号为Progress ELL 150。 这台设备主要用于制造光掩模，也可在不使用掩模的情况下直接在基板上绘制电路图案。目前Ox Alpha仍可免费使用，它已跃居AI模型市场OpenRouter排行榜首位，使用量达到DeepSeek的两倍以上。智谱计划公开发布其模型权重——即指导人工智能系统进行决策的一系列参数——这将允许开发者以该模型为基础开发其他产品。150纳米制程大致对应20年前英特尔奔腾4的性能水平。
二 | （新浪）原文链接。2025年ZNTC曾展示过350纳米分辨率的同类设备，目前已向90纳米和130纳米技术节点推进。 行业专家指出，这种设备仅适合航天、国防等领域的专用芯片小批量生产。
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